電子工廠凈化工程的特點和對受控環(huán)境的要求
電子工廠凈化工程的特點和對受控環(huán)境的要求
基于微電子和光電子加工工藝的精密化，微細化和規(guī)模化，就決定了它對生產(chǎn)環(huán)境的的要求就越來越高，它對環(huán)境的要求可用凈、精、純、嚴四個字來形容:
凈：電子工廠，尤其是微電子前工序和光電子前工序的潔凈室對環(huán)境潔凈度的要求越來越凈。例如，12吋園片超大規(guī)模集成電路前工序光刻間的潔凈度要求高達1級（0.1μm）也就是每立方英尺空氣中≥0.1 μm的粒子數(shù)不能超過1顆。相當(dāng)于ISO 1級。特別重要的是它對環(huán)境空氣提出了去除分子污染（SO2 , Nox , VOC ,NH3等）的要求。
精：電子工廠生產(chǎn)工藝對環(huán)境空氣溫、濕度的控制精度要求越來越精。還以上述微電子的光刻間為例：其溫度精度為±0.1℃，相對濕度的精度為±3%。
純：大規(guī)模集成電路前工序?qū)ιa(chǎn)用的高純水、高純氣體以及高純?nèi)軇┑募兌纫笤絹碓郊儭＠纾簩Ω呒兯?，不僅對其電阻率有要求，而且對高純水中所含粒子、**、重金屬以及其他元素的離子成份都有嚴格的要求，隨著生產(chǎn)工藝的發(fā)展，對其純度的要求也越來越高。可謂純之又純。
嚴：電子工業(yè)生產(chǎn)不僅對環(huán)境的潔凈度，溫、濕度有嚴格的要求，同時對環(huán)境的聲（噪聲）、光（照度）、電（靜電）、磁（電磁場屏蔽）、振（微振）等都有嚴格的要求。尤其微電子生產(chǎn)，對環(huán)境的分子級污染提出了新的嚴格的要求。分子污染是指環(huán)境空氣中要嚴格控制例如鈉（Na）元素、碳（COx）元素、硫（SOx）元素、（NOx）元素等對半導(dǎo)體工藝有害的元素。因此在處理空氣時還要用淋水（淋自來水、淋純凈水）來吸收室外空氣中的有害分子成份和用化學(xué)過濾器來吸附新風(fēng)中的有害分子成份。以上的講解希望可以幫到您。
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